Представлен российский проект многолучевого электронного литографа для выпуска микросхем
Коллектив российских инженеров, пользующийся поддержкой Национальной технологической инициативы, обнародовал проект электронного литографа, построенного на многолучевом принципе. Ключевое отличие от традиционных схем — мультикатод, испускающий не одиночный пучок электронов, а целую матрицу лучей. Согласно вычислениям авторов, это сжимает продолжительность экспонирования одной кремниевой подложки с полутора-двух недель до 5–7 минут — примерно в три тысячи раз, сообщают «Известия».
Руководитель разработки Евгений Гиваргизов уточнил изданию, что технология мультикатода уже воплощена в железе и применена на практике. Он указал, что в заграничных аналогах множественные лучи получают делением единственного исходного пучка при помощи громоздкой системы зеркал и бланкирующих затворов. Российский подход базируется на массиве автономных эмиттеров электронов, сформированных на общей пластине. Такая архитектура, по оценке разработчиков, сулит удешевление самой машины и менее жёсткие запросы к инфраструктуре.
Первый экспериментальный литограф рассчитывают собрать в горизонте около трёх лет. Установка, как предполагается, сможет работать с технологическими нормами в диапазоне от 350 нм вплоть до единиц нанометров.
Сергей Сазонов, представляющий экспертный пул НТИ по направлению микроэлектроники и электронной промышленности, назвал заложенную в проект концепцию многообещающей. При благоприятном исходе, отметил он, решение позволит форсировать производственные цепочки и сократить критическую зависимость от зарубежного литографического оборудования.