
Подразделение РАН разрабатывает литограф для выпуска чипов
Нижегородский Институт прикладной физики РАН занялся разработкой литографа для выпуска 7-нм чипов. Производство оборудования могут начать к 2028 году, передаёт портал «Стратегия развития Нижегородской области».
Специалисты уже представили образец литографического оборудования для микроэлектронной промышленности, на котором получили отдельные изображения на подложках с разрешением до 7 нм.
Проект нижегородского Института разделили на 3 этапа. Во-первых, до 2024 года разработчикам нужно сделать рабочую установку с полным циклом операций, чтобы привлечь инвесторов.
Во-вторых, до 2026 года специалистам необходимо нарастить производительность литографа, автоматизировать часть операций, сделать оборудование пригодным для использования на крупных производствах. В-третьих, до 2028 года Институт должен представить улучшенный промышленный образец литографа, готовый к выпуску 7-нм чипов.